刻蝕工藝的基本概念刻蝕工藝是指通過物理或化學(xué)手段去除材料,以形成所需的微細(xì)圖案。它通常應(yīng)用于半導(dǎo)體制造中,尤其是在集成電路(IC)生產(chǎn)過程中??涛g過程可以分為濕刻蝕和干刻蝕兩大類濕刻蝕:使用液體化學(xué)試劑直接浸泡材料表面,通過化學(xué)反應(yīng)去除材料
09-03芯片研發(fā)行業(yè)概述芯片研發(fā)是半導(dǎo)體行業(yè)的重要組成部分,涵蓋了從芯片設(shè)計(jì)、驗(yàn)證到制造的整個(gè)過程。該行業(yè)不僅涉及到硬件設(shè)計(jì)、電路設(shè)計(jì)等技術(shù),還需要掌握相關(guān)的軟件工具和編程語言。芯片研發(fā)的應(yīng)用范圍非常廣泛,包括但不限于智能手機(jī)、電腦、汽車電子、醫(yī)療
09-01半導(dǎo)體材料硅(Si)硅是最常用的半導(dǎo)體材料,約占據(jù)半導(dǎo)體市場(chǎng)的90%以上。它的優(yōu)點(diǎn)在于豐富的自然資源、良好的電導(dǎo)性和適中的帶隙(約1.1電子伏特)。硅的導(dǎo)電性可以通過摻雜其他元素(如磷、硼)來調(diào)節(jié),從而形成n型或p型半導(dǎo)體。鍺(Ge)鍺是另
09-01應(yīng)用材料公司(Applied Materials)應(yīng)用材料公司成立于1967年,總部位于美國加利福尼亞州,是全球最大的半導(dǎo)體制造設(shè)備供應(yīng)商之一。該公司的產(chǎn)品主要用于半導(dǎo)體、顯示器和太陽能電池的制造。主要產(chǎn)品薄膜沉積設(shè)備:應(yīng)用材料的薄膜沉積設(shè)
08-31AI芯片的市場(chǎng)前景市場(chǎng)需求不斷增長(zhǎng)隨著AI技術(shù)的不斷成熟,各行各業(yè)對(duì)AI芯片的需求也在持續(xù)增加。無論是智能手機(jī)、云計(jì)算、自動(dòng)駕駛汽車,還是工業(yè)機(jī)器人,AI芯片都扮演著至關(guān)重要的角色。根據(jù)市場(chǎng)研究機(jī)構(gòu)的預(yù)測(cè),未來幾年AI芯片市場(chǎng)的年均增長(zhǎng)率將
08-31什么是IC芯片?IC芯片是由多個(gè)電子元件(如晶體管、電阻和電容等)集成在一起的微小電路。它們可以執(zhí)行特定的功能,例如放大信號(hào)、存儲(chǔ)數(shù)據(jù)或控制其他設(shè)備。IC芯片的種類繁多,主要分為模擬IC、數(shù)字IC和混合信號(hào)IC等。IC芯片的基本分類模擬IC
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